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GALVANOTEST 2000電化學(xué)去鍍測(cè)厚儀一級(jí)代理
GALVANOTEST 2000測(cè)厚儀根據(jù)DIN 50955 / ISO 2177的庫(kù)侖電鍍或電化學(xué)去鍍技術(shù)適用于實(shí)際上所有基材上的電鍍涂層的測(cè)量，即：在鋼，有色金屬和絕緣材料上的測(cè)量。 鋼上的鎳，鋼上的鋅，銅上的錫，銅上的銀和環(huán)氧樹脂上的銅。 該方法也適用于測(cè)量多層系統(tǒng)的各種涂層，例如鋼上銅上的鎳鉻。
測(cè)量原理是基于法拉第定律
??與電鍍方法相反，涂層從樣品中電化學(xué)去除。 為此，將不銹鋼測(cè)量池放置在要測(cè)量的樣品上。 電池填充有根據(jù)涂層/基底組合選擇的電解質(zhì)溶液。 放置在電池和樣品之間的橡膠墊圈限定了測(cè)量區(qū)域，例如， 4平方毫米。 測(cè)量裝置電連接到電子處理單元。 當(dāng)接通時(shí)，恒定電流流過(guò)電解液，以電化學(xué)方式去除電化學(xué)金屬涂層。
GALVANOTEST 2000電化學(xué)去鍍測(cè)厚儀一級(jí)代理
測(cè)量原理庫(kù)侖去鍍法
可測(cè)量涂層/基體
組合：70以上請(qǐng)參考電解液選擇表
測(cè)量范圍0.05? 75個(gè)中心
去鍍速度0.3 ... 40微米/分（可調(diào)）
測(cè)量單位μm（微米）/英寸（可調(diào)）
顯示讀數(shù)4位數(shù)字顯示浮點(diǎn)數(shù)
字母數(shù)字顯示16位數(shù)字
顯示儀器設(shè)置和操作步驟
用于監(jiān)測(cè)去鍍工藝的模擬儀器
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)zui大 2,000個(gè)讀數(shù)zui多可存儲(chǔ)10個(gè)應(yīng)用程序
通過(guò)鍵盤操作
數(shù)據(jù)端口RS 232 CfürMiniPrint 4100，PC或其他兼容打印機(jī)
y-t寫入器的模擬輸出
電源可從110V / 200V±10％50 ... 60Hz / 10瓦切換
重量?jī)x器：約 2.5公斤精密架：約 2,5公斤
篤摯儀器現(xiàn)貨代理！涂層厚度測(cè)量?jī)x器系列GalvanoTest 2000/3000由ElektroPhysik Dr. Steingroever GmbH＆Co. KG制造。 良好的2000和3000具有功能和實(shí)用的厚度計(jì)，其操作在庫(kù)侖原理上，用于測(cè)量金屬或非金屬基底上的所有類型的電鍍單層或多層涂層由鉻，鎳，黃銅，銀等制成。 測(cè)量范圍為0.05至75μm，測(cè)量池配有循環(huán)泵。 它具有各種類型的附件，用于在諸如線材和多層涂層的小部件上進(jìn)行測(cè)量。
